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UV光氧催化設(shè)備分解過(guò)程

來(lái)源:未知 ?? 作者: 本藍(lán)環(huán)保; 發(fā)布日期:2021-07-08 11:47

UV光氧催化設(shè)備分解過(guò)程
 
光降解通常是指有機(jī)物在光*的作用下逐漸氧化成低分子中間產(chǎn)物,壽命變?yōu)镃O2、H2O等離子如NO3-、PO43-、Cl-等。有機(jī)物的光降解可分為直接光降解和間接光降解。前者是指有機(jī)分子吸收光能后發(fā)生的進(jìn)一步化學(xué)反應(yīng)。后者是周?chē)h(huán)境中的一些物質(zhì)吸收光能進(jìn)入激發(fā)態(tài),進(jìn)而誘發(fā)一系列有機(jī)污染反應(yīng)。對(duì)于環(huán)境中難以生物降解的有機(jī)污染物,間接光降解更為重要。
 
光化學(xué)反應(yīng)降解污染物的方法有無(wú)催化劑光氧化和有催化劑光氧化。前者多以氧氣和過(guò)氧化氫為氧化劑,在紫外光照射下氧化分解污染物;后者又稱(chēng)為光催化氧化,一般可分為均相催化和非均相催化。在均相光催化降解中,以Fe2+或Fe3+和H2O2為介質(zhì),通過(guò)光芬頓反應(yīng)降解污染物。在非均相光催化降解中,在污染體系中加入一定量的光敏半導(dǎo)體材料,結(jié)合一定量的光輻射,使光敏半導(dǎo)體在光的照射下激發(fā)產(chǎn)生電子-空穴對(duì)。半導(dǎo)體上吸附的溶解氧和水分子與電子-空穴相互作用,產(chǎn)生HO等強(qiáng)氧化性自由基,通過(guò)與污染物的羥基加成、取代和電子轉(zhuǎn)移方程,使其完全或幾乎完全礦化。